Depunerea de oxizi metalici cu constanta dielectrica mare prin ablatie laser

Trimisa la data: 2010-05-04
Materia: Fizica
Pagini: 36
Comentarii: 0 (comenteaza)
Autor: Gabriel_T
Lucrare de licenta despre Depunerea de oxizi metalici cu constanta dielectrica mare prin ablatie laser
Din numarul mare de denumiri ce apar in literatura de specialitate pentru depunerea laser pulsata, exista un numar de sinonime ce merita a fi pomenite, cum ar fi: evaporarea laser, depunerea si tratamentul asistat laser, ablatia laser, depunerea prin ablatie laser, depunerea prin evaporare laser, "sputtering"-ul asistat laser etc. Ceea ce este comun tututor acestor definitii este faptul ca reprezinta intotdeauna o succesiune de doua procese: o vaporizare a unui material tinta urmata de depunerea acestuia pe un colector aflat la o anumita distanta si plasat, in general, plan-paralel cu tinta.

Radiatia laser, ca sursa externa de energie, a fost folosita pentru prima data in experimente in camere de reactie vidate, in scopul de a vaporiza diverse materiale (semiconductori sau dielectrici) si de a le depune sub forma de filme subtiri de catre Smith si Turner in 1965, folosind un laser cu rubin si lucrand la presiuni joase. Autorii au gasit ca filmele depuse de ei (PbCl2, MoO3, CdTe, PbTe, ZnTe) nu au reprodus stoichiometria tintei, nu au fost uniforme din punct de vedere al grosimii si nici aderente la substrat (sticla, mica, BaF2 sau AsS3).

Comanda prin: SMS / CARD

Comanda aceasta lucrare cu doar 10 Euro + TVA.

Completeaza-ti corect adresa de e-mail. Pe aceasta vei primi link-ul de descarcare a lucrarii de licenta dupa ce plata a fost confirmata!

Utilizatorul plătitor de venituri împuterniceşte pe Administratorul Site-ului să calculeze, să reţină şi să vireze la bugetul de stat, în numele şi pe seama sa, taxele, impozitele şi contribuţiile sociale datorate în legătură cu veniturile din proprietate intelectuală realizate de utilizatorul cedent, în conformitate cu dispoziţiile legale în materie în vigoare.

Lucrare de licenta despre Depunerea de oxizi metalici cu constanta dielectrica mare prin ablatie laser

Cuprins

1. Introducere........3

1.1 Ablatia laser.......3
1.2Avantaje si dezavantaje ale ablatiei laser........10

2. Depunerea de filme subtiri prin ablatie laser.....13
2.1 Interactia radiatiei laser-suprafata......13
2.2 Expansiunea plasmei.........17
2.3 Cresterea filmelor--modele de crestere..........22

3. Influenta descarcarii RF asupra proprietatilor electrice si morfologice ale filmelor subtiri de HfO2...........27
3.1 Introducere.........27
3.2 Partea experimentala.......28
3.3 Rezultate si discutii.........31
3.4 Concluzii........35

Bibliografie.........36


Nota:Textul de mai sus reprezinta un extras din lucrarea de licenta "Depunerea de oxizi metalici cu constanta dielectrica mare prin ablatie laser". Prin descarcarea prezentei lucrarii stiintifice, orice utilizator al site-ului www.referat.ro declara si garanteaza ca este de acord cu utilizarile permise ale acesteia, in conformitate cu prevederile legale ablicabile in domeniul proprietatii intelectuale si in domeniul educatiei din legislatia in vigoare.

Comentarii

*Nu exista comentarii

Home | Termeni si conditii | Politica de confidentialitate | Cookies | Help (F.A.Q.) | Contact | Publicitate
Toate imaginile, textele sau alte materiale prezentate pe site sunt proprietatea referat.ro fiind interzisa reproducerea integrala sau partiala a continutului acestui site pe alte siteuri sau in orice alta forma fara acordul scris al referat.ro. Va rugam sa consultati Termenii si conditiile de utilizare a site-ului. Informati-va despre Politica de confidentialitate. Daca aveti intrebari sau sugestii care pot ajuta la dezvoltarea site-ului va rugam sa ne scrieti la adresa webmaster@referat.ro.